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Materials Science In Semiconductor Processing
人气:10

Materials Science In Semiconductor Processing SCIE

  • ISSN:1369-8001
  • 出版商:Elsevier Ltd
  • 出版语言:English
  • E-ISSN:1873-4081
  • 出版地区:ENGLAND
  • 是否预警:
  • 创刊时间:1998
  • 出版周期:Bimonthly
  • TOP期刊:
  • 影响因子:4.2
  • 是否OA:未开放
  • CiteScore:8
  • H-index:49
  • 研究类文章占比:96.22%
  • Gold OA文章占比:5.21%
  • 文章自引率:0.0487...
  • 开源占比:0.0145
  • OA被引用占比:0.0123...
  • 出版国人文章占比:0.21
  • 出版修正文章占比:0.0041...
  • 国际标准简称:MAT SCI SEMICON PROC
  • 涉及的研究方向:工程技术-材料科学:综合
  • 中文名称:半导体加工中的材料科学
  • 预计审稿周期: 约1.7个月 约3.7周
国内分区信息:

大类学科:工程技术  中科院分区  3区

国际分区信息:

JCR学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC、MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY、PHYSICS, APPLIED、PHYSICS, CONDENSED MATTER  JCR分区  Q2

  • 影响因子:4.2
  • Gold OA文章占比:5.21%
  • OA被引用占比:0.0123...
  • CiteScore:8
  • 研究类文章占比:96.22%
  • 开源占比:0.0145
  • 文章自引率:0.0487...
  • 出版国人文章占比:0.21

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Materials Science In Semiconductor Processing 期刊简介

Materials Science In Semiconductor Processing是工程技术领域的一本优秀期刊。由Elsevier Ltd出版社出版。该期刊主要发表工程技术领域的原创性研究成果。创刊于1998年,该期刊主要刊载工程技术-材料科学:综合及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展,更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准,确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外,该刊同时被SCIE数据库收录,并被划分为中科院SCI3区期刊,它始终坚持创新,不断专注于发布高度有价值的研究成果,不断推动工程技术领域的进步。

同时,我们注重来稿文章表述的清晰度,以及其与我们的读者群体和研究领域的相关性。为此,我们期待所有投稿的文章能够保持简洁明了、组织有序、表述清晰。该期刊平均审稿速度为平均 约1.7个月 约3.7周。若您对于稿件是否适合该期刊存在疑虑,建议您在提交前主动与期刊主编取得联系,或咨询本站的客服老师。我们的客服老师将根据您的研究内容和方向,为您推荐最为合适的期刊,助力您顺利投稿,实现学术成果的顺利发表。

Materials Science In Semiconductor Processing 期刊国内分区信息

中科院分区 2023年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 3区 3区 3区 3区
中科院分区 2022年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 2区 2区 3区 3区
中科院分区 2021年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 3区 3区 3区 3区
中科院分区 2021年12月基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 3区 4区 3区 3区
中科院分区 2021年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 3区 3区 3区 3区
中科院分区 2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 3区 3区 3区 3区

Materials Science In Semiconductor Processing 期刊国际分区信息(2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 89 / 352

74.9%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 158 / 438

64%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 51 / 179

71.8%

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 25 / 79

69%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 113 / 354

68.22%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 125 / 438

71.58%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 47 / 179

74.02%

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 19 / 79

76.58%

CiteScore指数(2024年最新版)

  • CiteScore:8
  • SJR:0.732
  • SNIP:0.992
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Mechanical Engineering Q1 87 / 672

87%

大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics Q1 59 / 434

86%

大类:Engineering 小类:Mechanics of Materials Q1 60 / 398

85%

大类:Engineering 小类:General Materials Science Q1 100 / 463

78%

期刊评价数据趋势图

中科院分区趋势图
期刊影响因子和自引率趋势图

发文统计

年发文量统计
年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
年发文量 518 753 390 455 412 468 485 873 706 635
国家/地区发文量统计
国家/地区 数量
CHINA MAINLAND 376
India 309
South Korea 97
Turkey 76
Mexico 73
Japan 71
Iran 65
USA 63
Saudi Arabia 55
Italy 48
机构发文量统计
机构 数量
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM) 48
NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY (NIT SYSTEM) 42
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 37
SRM INSTITUTE OF SCIENCE & TECHNOLOGY CHENNAI 36
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) 26
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) 25
INSTITUTO POLITECNICO NACIONAL - MEXICO 23
COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH (CSIR) - INDIA 22
UNIVERSIDAD NACIONAL AUTONOMA DE MEXICO 19
KING KHALID UNIVERSITY 17

高引用文章

文章名称 引用次数
Recent advances in perovskite oxides for anion-intercalation supercapacitor: A review 42
Enhanced photocatalytic performance of visible-light active graphene-WO3 nanostructures for hydrogen production 36
Photocatalytic, Fenton and photo-Fenton degradation of RhB over Z-scheme g-C3N4/LaFeO3 heterojunction photocatalysts 31
Photocatalytic degradation of methylene blue in aqueous solution by using ZnO-SnO2 nanocomposites 31
Recent advances in diamond power semiconductor devices 25
Recent progress in the growth of beta-Ga2O3 for power electronics applications 23
Materials and processing issues in vertical GaN power electronics 21
Review of technology for normally-off HEMTs with p-GaN gate 21
Improving microstructural properties and minimizing crystal imperfections of nanocrystalline Cu2O thin films of different solution molarities for solar cell applications 20
Facilely synthesized Cu:PbS nanoparticles and their structural, morphological, optical, dielectric and electrical studies for optoelectronic applications 20

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