Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena
人气:3

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena SCIE

  • ISSN:0368-2048
  • 出版商:Elsevier
  • 出版语言:Multi-Language
  • E-ISSN:1873-2526
  • 出版地区:NETHERLANDS
  • 是否预警:
  • 创刊时间:1972
  • 出版周期:Monthly
  • TOP期刊:
  • 影响因子:1.8
  • 是否OA:未开放
  • CiteScore:3.3
  • H-index:80
  • 研究类文章占比:98.65%
  • Gold OA文章占比:27.69%
  • 文章自引率:0.0526...
  • 开源占比:0.1872
  • OA被引用占比:0.0653...
  • 出版国人文章占比:0.08
  • 国际标准简称:J ELECTRON SPECTROSC
  • 涉及的研究方向:物理-光谱学
  • 中文名称:电子能谱及相关现象杂志
  • 预计审稿周期: 较慢,6-12周
国内分区信息:

大类学科:物理与天体物理  中科院分区  4区

国际分区信息:

JCR学科:SPECTROSCOPY  JCR分区  Q2

  • 影响因子:1.8
  • Gold OA文章占比:27.69%
  • OA被引用占比:0.0653...
  • CiteScore:3.3
  • 研究类文章占比:98.65%
  • 开源占比:0.1872
  • 文章自引率:0.0526...
  • 出版国人文章占比:0.08

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Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 期刊简介

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena是物理与天体物理领域的一本优秀期刊。由Elsevier出版社出版。该期刊主要发表物理与天体物理领域的原创性研究成果。创刊于1972年,该期刊主要刊载物理-光谱学及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展,更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准,确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外,该刊同时被SCIE数据库收录,并被划分为中科院SCI4区期刊,它始终坚持创新,不断专注于发布高度有价值的研究成果,不断推动物理与天体物理领域的进步。

同时,我们注重来稿文章表述的清晰度,以及其与我们的读者群体和研究领域的相关性。为此,我们期待所有投稿的文章能够保持简洁明了、组织有序、表述清晰。该期刊平均审稿速度为平均 较慢,6-12周 。若您对于稿件是否适合该期刊存在疑虑,建议您在提交前主动与期刊主编取得联系,或咨询本站的客服老师。我们的客服老师将根据您的研究内容和方向,为您推荐最为合适的期刊,助力您顺利投稿,实现学术成果的顺利发表。

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 期刊国内分区信息

中科院分区 2023年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 4区 SPECTROSCOPY 光谱学 3区
中科院分区 2022年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 SPECTROSCOPY 光谱学 3区
中科院分区 2021年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 4区 SPECTROSCOPY 光谱学 3区
中科院分区 2021年12月基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理 4区 SPECTROSCOPY 光谱学 4区
中科院分区 2021年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 4区 SPECTROSCOPY 光谱学 3区
中科院分区 2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 4区 SPECTROSCOPY 光谱学 4区

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 期刊国际分区信息(2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:SPECTROSCOPY SCIE Q2 22 / 44

51.1%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:SPECTROSCOPY SCIE Q2 16 / 44

64.77%

CiteScore指数(2024年最新版)

  • CiteScore:3.3
  • SJR:0.506
  • SNIP:0.68
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Radiation Q2 26 / 58

56%

大类:Physics and Astronomy 小类:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 116 / 224

48%

大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q3 227 / 434

47%

大类:Physics and Astronomy 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 158 / 284

44%

大类:Physics and Astronomy 小类:Physical and Theoretical Chemistry Q3 115 / 189

39%

大类:Physics and Astronomy 小类:Spectroscopy Q3 49 / 76

36%

期刊评价数据趋势图

中科院分区趋势图
期刊影响因子和自引率趋势图

发文统计

年发文量统计
年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
年发文量 151 150 88 84 102 84 68 58 61 74
国家/地区发文量统计
国家/地区 数量
USA 39
CHINA MAINLAND 31
GERMANY (FED REP GER) 30
India 28
Japan 26
Italy 19
Russia 15
Sweden 15
France 13
Poland 12
机构发文量统计
机构 数量
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) 12
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 11
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) 9
TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN 9
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) 8
HELMHOLTZ ASSOCIATION 8
UPPSALA UNIVERSITY 8
CZECH ACADEMY OF SCIENCES 7
HUNAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 7
UNIVERSITY OF DELHI 7

高引用文章

文章名称 引用次数
XPS in industry-Problems with binding energies in journals and binding energy databases 15
Chemical bonding in carbide MXene nanosheets 14
Chemical surface analysis on materials and devices under functional conditions - Environmental photoelectron spectroscopy as non-destructive tool for routine characterization 11
Imaging XPS for industrial applications 10
Automated electron-optical system optimization through switching Levenberg-Marquardt algorithms 10
Electronic and magnetic properties of the (001) surface of the CoNbMnSi Heusler alloy: First-principles calculations 9
Reliable absorbance measurement of liquid samples in soft X-ray absorption spectroscopy in transmission mode 9
Electronic properties of composite iron (II, III) oxide (Fe3O4) carbonaceous absorber materials by electron spectroscopy 8
Investigation of local geometrical structure, electronic state and magnetic properties of PLD grown Ni doped SnO2 thin films 6
Effect of argon sputtering on XPS depth-profiling results of Si/Nb/Si 6

免责声明

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