推荐合适期刊 投稿指导 助力快速见刊免费咨询
Journal Of Photopolymer Science And Technology是化学领域的一本优秀期刊。由Tokai University出版社出版。该期刊主要发表化学领域的原创性研究成果。创刊于1988年,该期刊主要刊载化学-高分子科学及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展,更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准,确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外,该刊同时被SCIE数据库收录,并被划分为中科院SCI4区期刊,它始终坚持创新,不断专注于发布高度有价值的研究成果,不断推动化学领域的进步。
同时,我们注重来稿文章表述的清晰度,以及其与我们的读者群体和研究领域的相关性。为此,我们期待所有投稿的文章能够保持简洁明了、组织有序、表述清晰。该期刊平均审稿速度为平均 偏慢,4-8周 。若您对于稿件是否适合该期刊存在疑虑,建议您在提交前主动与期刊主编取得联系,或咨询本站的客服老师。我们的客服老师将根据您的研究内容和方向,为您推荐最为合适的期刊,助力您顺利投稿,实现学术成果的顺利发表。
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
化学 | 4区 | POLYMER SCIENCE 高分子科学 | 4区 | 否 | 否 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:POLYMER SCIENCE | SCIE | Q4 | 89 / 94 |
5.9% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:POLYMER SCIENCE | SCIE | Q4 | 90 / 94 |
4.79% |
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Materials Science 小类:Polymers and Plastics | Q3 | 117 / 161 |
27% |
大类:Materials Science 小类:Materials Chemistry | Q3 | 234 / 317 |
26% |
大类:Materials Science 小类:Organic Chemistry | Q4 | 177 / 211 |
16% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年发文量 | 132 | 136 | 145 | 111 | 121 | 132 | 0 | 85 | 59 | 0 |
国家/地区 | 数量 |
Japan | 215 |
CHINA MAINLAND | 14 |
USA | 12 |
Belgium | 8 |
South Korea | 7 |
Malaysia | 5 |
Australia | 3 |
GERMANY (FED REP GER) | 3 |
Netherlands | 3 |
Switzerland | 3 |
机构 | 数量 |
OSAKA UNIVERSITY | 20 |
TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE | 18 |
OSAKA PREFECTURE UNIVERSITY | 16 |
UNIVERSITY OF HYOGO | 11 |
LITHO TECH JAPAN CORP | 10 |
OSAKA CITY UNIVERSITY | 10 |
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE & TECHNOLOGY (AIST) | 9 |
RITSUMEIKAN UNIVERSITY | 9 |
TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY | 9 |
IMEC | 8 |
文章名称 | 引用次数 |
Dual-tone Application of a Tin-Oxo Cage Photoresist Under E-beam and EUV Exposure | 6 |
Visible Sensitization for Non-Fullerene Polymer Solar Cells Using a Wide Bandgap Polymer | 5 |
Bio-mimic Motion of Elastic Material Dispersed with Hard-magnetic Particles | 5 |
The Role of Underlayers in EUVL | 4 |
Synthesis of Liquid Crystalline Block Copolymers Self-assembled into Sub-5 nm Microdomains | 4 |
Fluorescent Polystyrene Latex Nanoparticles for NIR-II in vivo Imaging | 3 |
Durability Evaluation of Antireflection Structure Replica Mold using High Hardness and Antifouling UV-curable Resin | 3 |
3D Printing System of Magnetic Anisotropy for Artificial Cilia | 3 |
Laser Direct Writing of Microstructure on Graphene Oxide/Metal Oxide Hybrid Film | 3 |
EUV Lithography Technology for High-volume Production of Semiconductor Devices | 3 |
SCIE
影响因子 9.4
CiteScore 13.6
SCIE
CiteScore 4
SCIE
影响因子 3.1
CiteScore 2.8
SCIE
影响因子 13.9
CiteScore 17.4
SCIE
影响因子 5.5
CiteScore 7.4
SCIE
影响因子 1.2
CiteScore 1.3
SCIE
影响因子 11.7
CiteScore 28
SCIE
影响因子 2.1
CiteScore 2.1
SCIE
影响因子 2.4
CiteScore 4.7
SCIE
影响因子 0.4
若用户需要出版服务,请联系出版商:TECHNICAL ASSOC PHOTOPOLYMERS,JAPAN, CHIBA UNIV, FACULTY ENGINEERING, YAYOICHO, CHIBA, JAPAN, 263-8522。