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Journal Of Vacuum Science & Technology A是材料科学领域的一本优秀期刊。由AVS Science and Technology Society出版社出版。该期刊主要发表材料科学领域的原创性研究成果。创刊于1983年,该期刊主要刊载材料科学:膜-工程技术及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展,更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准,确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外,该刊同时被SCIE数据库收录,并被划分为中科院SCI3区期刊,它始终坚持创新,不断专注于发布高度有价值的研究成果,不断推动材料科学领域的进步。
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大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
材料科学 | 3区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 3区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
材料科学 | 2区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 3区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
材料科学 | 3区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 3区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 4区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
材料科学 | 3区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 3区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
材料科学 | 2区 | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 2区 3区 | 否 | 否 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 13 / 23 |
45.7% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 12 / 23 |
50% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics | Q2 | 135 / 434 |
69% |
大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces and Interfaces | Q2 | 19 / 57 |
67% |
大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 45 / 132 |
66% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年发文量 | 221 | 273 | 241 | 232 | 227 | 218 | 293 | 269 | 254 | 333 |
国家/地区 | 数量 |
USA | 368 |
Japan | 77 |
GERMANY (FED REP GER) | 61 |
South Korea | 56 |
France | 44 |
Sweden | 33 |
CHINA MAINLAND | 31 |
England | 29 |
Finland | 26 |
Netherlands | 26 |
机构 | 数量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) | 58 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) | 30 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE | 26 |
LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
CEA | 18 |
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
文章名称 | 引用次数 |
Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects | 72 |
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition | 26 |
Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements | 23 |
Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition | 19 |
Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition | 16 |
Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film | 14 |
Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development | 14 |
Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook | 13 |
Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices | 12 |
Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry | 11 |
SCIE
CiteScore 2
SCIE
影响因子 15.3
CiteScore 21.9
SCIE
CiteScore 0.1
SCIE
CiteScore 10.3
SCIE
影响因子 0.8
CiteScore 1.3
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影响因子 14.8
CiteScore 13.8
SCIE
SCIE
影响因子 0.6
CiteScore 1.4
SCIE
影响因子 1.7
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影响因子 12.6
CiteScore 17.8
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