Afterall SCIE

Afterall是艺术学领域的一本优秀期刊。由University of Chicago Press出版社出版。该期刊主要发表艺术学领域的原创性研究成果。该期刊主要刊载ART及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展，更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准，确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外，该刊同时被SCIE数据库收录，并被划分为中科院SCI4区期刊，它始终坚持创新，不断专注于发布高度有价值的研究成果，不断推动艺术学领域的进步。

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